2024年5月12日，御微首臺(tái)掩模基板缺陷檢測(cè)產(chǎn)品Halo-100在御微合肥成功發(fā)運(yùn)，并順利交付國(guó)內(nèi)先進(jìn)掩模廠。

御微半導(dǎo)體自主研發(fā)的Halo-100設(shè)備作為御微“掩模全生命周期質(zhì)量控制”產(chǎn)品線的第二款產(chǎn)品，憑借御微多年來在掩模檢測(cè)領(lǐng)域積累的豐富經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)儲(chǔ)備，以高精度光學(xué)系統(tǒng)、高穩(wěn)定性運(yùn)動(dòng)臺(tái)系統(tǒng)以及高潔凈度環(huán)控與傳輸系統(tǒng)為基礎(chǔ)，結(jié)合御微專有的算法和軟件系統(tǒng)，成功實(shí)現(xiàn)了針對(duì)掩模基板(blank)缺陷檢測(cè)的需求，并將掩模檢測(cè)的應(yīng)用領(lǐng)域拓展至掩模廠來料檢和掩模基板廠全制程控制檢。

御微半導(dǎo)體Halo-100掩模基板缺陷檢測(cè)產(chǎn)品

在掩模廠中，Halo-100設(shè)備可應(yīng)用于來料檢，在掩模版曝光前進(jìn)行缺陷檢測(cè)，從而有效避免對(duì)曝光機(jī)腔體內(nèi)部造成污染，同時(shí)防止帶污染物的掩模版經(jīng)過曝光后繼續(xù)流向后續(xù)工序，減少客戶良率損失。此外，該設(shè)備還可作為曝光機(jī)等生產(chǎn)設(shè)備particle monitor的檢測(cè)標(biāo)尺，定期監(jiān)測(cè)生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)部潔凈度。另外，Halo-100設(shè)備搭載的自動(dòng)開盒/自動(dòng)倒板模塊，極大減少因人工干預(yù)而帶來的二次污染，確保掩模板從光罩盒到曝光機(jī)全程零污染。

在掩模基板廠中，Halo-100設(shè)備可以運(yùn)用在玻璃基板來料檢、多層鍍膜過程檢和成品出貨檢等環(huán)節(jié)，助力客戶在每個(gè)制程節(jié)點(diǎn)監(jiān)測(cè)潔凈度情況。

Halo-100的推出，進(jìn)一步完善了御微在“掩模全生命周期質(zhì)量控制”產(chǎn)品線的布局，與i6R和Raptor兩款產(chǎn)品形成了一站式掩模零缺陷檢測(cè)監(jiān)管和質(zhì)量控制閉環(huán)。未來，御微將持續(xù)加大研發(fā)投入，精準(zhǔn)把握客戶需求，不斷推出滿足客戶需求的新產(chǎn)品，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)相關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的空白，為廣大客戶創(chuàng)造更多價(jià)值。